一个模式有多少能量,单位体积有多少模式
设想一个四壁温度为 T 的空腔。腔里的电磁场可以拆成许多驻波,每个驻波都是一个角频率为 ω 的谐振子。量子力学给出它在基态之上的平均能量 Θ(ω,T)。频率低、ℏω≪kBT 时,Θ 就是经典的 kBT;频率高、ℏω≫kBT 时,它按指数掉到几乎为零。
再数模式。两种偏振都算上,单位体积里角频率落在 ω 到 ω+dω 之间的模式有 ω2dω/(π2c3) 个。两者相乘,就是腔内单位体积、单位角频率的能量 u0。
后面每一章都沿用这个分法:一个模式的平均能量只看温度和频率,模式有多少、能不能跑出来,则由材料和几何决定。
Shchegrov 等人式 (1),Joulain 等人式 (47)。u0 的单位是 Jsm−3,即每单位角频率的能量密度。来源:A. V. Shchegrov · K. Joulain
对频率积分,得到 Stefan–Boltzmann 定律
令 x=ℏω/kBT,积分化成 ∫0∞x3/(ex−1)dx=π4/15。腔内总能量密度正比于 T4。
黑表面向半个空间发射。穿过一个平面的能流,等于能量密度乘光速,再乘法向速度分量在离开表面那一半方向上的平均值 1/4。于是黑表面的辐射通量是 σT4。
谱的峰值在哪里,要看用什么变量。按单位角频率算,峰在 ℏω≈2.82kBT,300 K 时是 1.11×1014rads−1;按单位波长算,峰在 10 µm 附近,也就是 Wien 定律。两个峰对不上,是因为两条谱是对不同变量的密度。
用 2019 年起精确定义的国际单位制常量,σ=5.670374419×10−8Wm−2K−4,与 NIST 的列值十位全同。课程的基准脚本还直接对 u0 做数值积分,得到同一个数。来源:NIST Reference on Constants · K. Joulain
Kirchhoff 定律:发射就是反过来的吸收
真实表面会把一部分波反射回去。Joulain 等人算出半空间向外发射的能量密度时,发现每个方向上都带着一个因子:两种偏振透射率之和的一半。材料内部本来就有黑体辐射,热发射就是这些辐射穿过界面透射出来。
把同一个透射过程反过来走,就是外面的光透进材料、被吸收。两个方向的透射率相等,所以在每个频率、每个角度、每种偏振上,发射率都等于吸收率。这就是 Kirchhoff 定律,在这里它是透射可逆性的直接结果。
碳化硅(SiC)是本课程的主角。它的介电函数来自晶格振动:横光学声子频率 ωT 和纵光学声子频率 ωL 之间,ε 的实部是负的,晶格逆着电场响应,表面几乎把光全部反射掉。这一段叫剩余射线带。
Joulain 等人式 (46) 中的发射率。rs、rp 是角度为 θ 时两种偏振的 Fresnel 反射振幅;黑表面 r=0,e=1。Shchegrov 等人第 1549 页给出的 SiC 介电函数,与 Joulain 等人式 (22) 相同:ε∞=6.7,ωL=182.7,ωT=149.5,γ=0.9,频率单位为 1012rads−1。来源:K. Joulain · A. V. Shchegrov
完整例题:两块黑板和碳化硅的一个低谷
题目。两块黑板相距 1 cm,温度分别是 400 K 和 300 K,求净热流。再求 SiC 在 ω=166 和 ω=200(单位 1012rads−1)处的法向发射率,并说明 300 K 时 SiC 在 166 处发光有黑表面几成。
建模。黑板吸收照到它上面的全部辐射,所以每块板发出 σT4,又全部收下对方发来的。1 cm 远大于 10 µm 的热波长,间隙大小不影响结果。净热流 q=σ(T14−T24)。
计算。σT14=1452Wm−2,σT24=459.3Wm−2,相减得 q=992Wm−2。如果用线性近似 4σT3ΔT,取 T=300K 得到 6.12×100=612Wm−2,少了 38%:温差 100 K 时 T4 的弯曲已经不能忽略。
再看 SiC。166 处 ε=−7.48+0.41i,代入法向公式得 ∣r∣2=0.966,发射率只有 0.034。200 处 ε=2.51+0.04i,发射率 0.949。也就是说,在 166 处 SiC 发出的光只有黑表面的 3.4%,在 200 处有 95%。远场光谱在 150 到 180 之间出现一个宽低谷,正是 Shchegrov 等人图 1(a) 里的那一段。
法向入射时两种偏振相同。取 ε 虚部为正的那一支。来源:NIST Reference on Constants · A. V. Shchegrov