过电压比
等于或低于对应阈值时,壳层特征发射为零。
E15 · X 射线微区分析
扫描合成钛钒样品,从存储像素提取 EDS 谱,再对所选区域独立采集 WDS 能量扫描。比较原始窗口亮度与同时考虑钛、钒和连续背景的拟合。
物理教程
背景扫描合成钛钒样品,从存储像素提取 EDS 谱,再对所选区域独立采集 WDS 能量扫描。比较原始窗口亮度与同时考虑钛、钒和连续背景的拟合。
为什么值得理解目标:选择远离边界的纯钛区。使用半高全宽不超过 12 eV 的 WDS、至少 1.6 的过电压比、超过 1,500 的谱计数与低于 0.03 的计数误差。确认拟合钒比例低于 0.04。重叠窗口发亮无法单独确认钒。
先抓重点
等于或低于对应阈值时,壳层特征发射为零。
一级反射;角度相对晶面定义。
用谱线与连续背景响应列拟合记录谱;比例估计依赖这些假设。
容易误解明亮的能量窗口就是元素浓度图。
正确理解WDS 缩窄谱响应,但不会移除干扰元素或校正基体。解释需要记录谱与明确的响应模型。
从左侧纯钛区开始,检查重叠窗口图与 EDS 谱。
应该观察到: 即使已知区域没有钒,窗口也会发亮。选择窄 WDS 预设,扫描重叠谱线并检查移动的晶体与计数器。
应该观察到: 窄响应显示谱结构,但拟合钛仍对表观钒峰贡献信号。曝光按扫描步计算。移到混合区,展宽 WDS 响应、降低计数并将束能降至激发阈值以下。
应该观察到: 计数、阈值与重叠决定可支持的结论。移动选区复用 EDS 立方,但重新采集 WDS。