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Sandbox Physics

光学 042 · 干涉、相干、光腔与精密测量

Young 双缝实验台

在有真实开口的三维双缝台上区分衍射与干涉,测量缺级、部分相干和不等振幅对比度。

交互模型Young 双缝实验台
共同屏幕采样点 I(yp),ypI(y_p),y_p0.500.50
条纹间距/包络第一零点 Δy,y1\Delta y,y_150%50\%
相位扫描可见度/宽度比/远场检查 Vphase,d/a,FAV_{\mathrm{phase}},d/a,F_A0.00π0.00\pi
模型适用区间模型适用\text{模型适用}

继续探索

孔径、传播与测量

依次改变缝数、相干性、孔径形状或传播距离,比较各自的作用。

物理教程

审查Young 双缝实验台的物理过程

背景有限宽的缝产生角度分布,而不是一条窄射线。在标量近轴远场中,孔径作 Fourier 变换:U(y)∝∫t(s)e−i2πys/(λL) dsU(y)\propto\int t(s)e^{-i2\pi ys/(\lambda L)}\,ds。每条缝内部相干,竖直高度无限。等宽的两缝具有同一个 sinc 振幅。三维中的两条线示意通向采样点的相位路径,不是求解的近场强度,也不表示光只经过这两条线。开口的宽度和中心距确实改变,屏幕也确实移动。

为什么值得理解缝宽、缝距、相位与相干性怎样共同塑造一张条纹图?

先抓重点

核心问题
缝宽、缝距、相位与相干性怎样共同塑造一张条纹图?
一句话直觉
屏幕上有两个独立尺度:Δy=λLd,y1=λLa\Delta y=\frac{\lambda L}{d},\qquad y_1=\frac{\lambda L}{a}。缝宽决定金色衍射包络,缝距决定青色干涉周期。即使两波在某处相位对齐,乘积也可能缺级。改变初相位会移动条纹,不移动包络。

核心数学模型

两个 Fourier 振幅

u−=sinc⁡(β)eiα,u+=rsinc⁡(β)ei(ϕ−α)β=πayλL,α=πdyλL,sinc⁡(x)=sin⁡xx,sinc⁡(0)=1\begin{aligned}u_-&=\operatorname{sinc}(\beta)e^{i\alpha},\quad u_+=r\operatorname{sinc}(\beta)e^{i(\phi-\alpha)}\\\beta&=\frac{\pi ay}{\lambda L},\quad\alpha=\frac{\pi dy}{\lambda L},\quad\operatorname{sinc}(x)=\frac{\sin x}{x},\quad\operatorname{sinc}(0)=1\end{aligned}

左缝中心为负,右缝中心为正。Fourier 的符号约定确定正相位的条纹移动方向。sinc 每经过零点会换符号;两缝振幅共同具有这个符号,不能从相量中悄悄去掉。

互相干,不是假衰减

IIref=∣u−∣2+∣u+∣2+2μRe⁡(u−∗u+)4=μ∣u−+u+∣24+(1−μ)∣u−∣2+∣u+∣24\frac{I}{I_{\mathrm{ref}}}=\frac{|u_-|^2+|u_+|^2+2\mu\operatorname{Re}(u_-^*u_+)}4=\mu\frac{|u_-+u_+|^2}4+(1-\mu)\frac{|u_-|^2+|u_+|^2}4

相干度只抑制交叉项。面板分别显示相干贡献和非相干贡献,不把部分相干伪装成一个单一电场。两缝处的恒定实互相干度由用户指定;SPEAR3 论文为对比度测量提供依据,但这里不模拟其光源尺寸反演或光学系统。

缺级与相位扫描对比度

ym=(m+ϕ2π)λLd,yn=nλLa,Vphase=2μr1+r2y_m=\left(m+\frac{\phi}{2\pi}\right)\frac{\lambda L}{d},\quad y_n=n\frac{\lambda L}{a},\quad V_{\mathrm{phase}}=\frac{2\mu r}{1+r^2}

相位对齐级次与非中心包络零点重合时消失。零初相位、缝距为缝宽三倍时,每三级缺级。相位对齐刻度不是完整乘积的精确局部极大值。可见度是在固定且非零包络处扫描相位得到;即使完全相干,振幅不等也会降低它。包络零点处局部对比度没有定义。

参考标尺与近似边界

IrefIinc=4a2λL,FA=[(d+a)/2]2λL≤0.081,∣y∣L≤0.020\frac{I_{\mathrm{ref}}}{I_{\mathrm{inc}}}=\frac{4a^2}{\lambda L},\quad F_A=\frac{[(d+a)/2]^2}{\lambda L}\le0.081,\quad\frac{|y|}{L}\le0.020

无限竖直缝的一维 Fresnel 核给出此处当前几何参考相对入射强度的值:随屏距反比变化,不是有限二维远场孔径的平方反比规律。所有图都使用这个明确参考的零到一标尺,不按当前最大值自动增益。远场检查采用完整水平半孔径,而非只用一条缝的宽度。屏幕颜色是示意 RGB,不是校准色度。这是近似,不是 Maxwell、Fresnel 近场、有限缝高或光子计数模拟。

常见难点

缝越宽,包络不是越宽

容易误解缝宽和缝距都使孔径变大,所以应该产生同样的效果。

正确理解它们是不同的 Fourier 因子。单缝加宽会收窄包络;中心距增大会压密条纹。相位改变移动对齐刻度;降低相干度填亮干涉暗隙,不移动包络零点。右缝振幅为零时留下单缝包络,峰值为等双缝参考的四分之一。

动手实验

  1. 01

    场景 1:窄缝干涉

    在窄缝预设中改变中心距,再改变屏距和波长。按 Shift 拖动游标或移动滑块到暗纹。把初相位设为 180 度,使中心变暗。

    应该观察到: 中心距改变周期,不改变包络;屏距与波长同时缩放两者。硬件、振幅、剖面和读数共用同一个白色采样点。
  2. 02

    场景 2:每三级缺级

    选择缺级预设。测量金色包络零点处的第三级相位对齐刻度,再改变缝宽或相位,打破重合。

    应该观察到: 第三级变暗是因为每条有限缝的振幅都在该处归零,不是两缝突然失去相干性。初相位不移动包络零点。
  3. 03

    场景 3:部分相干,不是调暗

    选择部分相干。把相干度降到零,再恢复并把右缝振幅降到零。比较交叉项与基线贡献。

    应该观察到: 无相干时留下各自强度之和;关闭一条缝会完全去掉干涉。振幅不等与部分相干是对比度降低的不同原因。
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