有限膜厚的反射
s 偏振以横向电场为标量振幅,p 偏振以阻抗归一的横向磁场为标量振幅。法向平方根取在无源出射介质中衰减的分支。有限膜内的多次反射决定反射谷,不另加预设谱线。角度均为从界面法线计的内部角。
光学 097 · 光纤、结构光与现代波动光学
表面等离激元共振怎样测出样品折射率的变化? 看反射光最暗的角度怎样移动。棱镜中的 p 偏振光经过金属薄膜,在金属与样品交界处激起增强电场,金属吸收增加。样品折射率改变,共振角也跟着移动。膜厚和损耗同样影响谷形,定量传感还需要标定。
调节 Kretschmann 棱镜与有限厚度金属膜。比较 p、s 偏振,追踪待测介质折射率改变后的反射谷,查看复数电场,并对同一电场的焦耳损耗积分。
物理教程
背景棱镜提供更大的切向波数 ,让入射场经过薄金属膜,耦合到集中在金属与样品交界处的波。源与收集器标出理想匹配半圆柱耦合器内的方向。
为什么值得理解表面等离激元共振怎样测出样品折射率的变化?
先抓重点
s 偏振以横向电场为标量振幅,p 偏振以阻抗归一的横向磁场为标量振幅。法向平方根取在无源出射介质中衰减的分支。有限膜内的多次反射决定反射谷,不另加预设谱线。角度均为从界面法线计的内部角。
增强量取金膜靠样品的一侧。局域焦耳损耗对膜厚积分,等于入射功率扣除反射和透射法向 Poynting 功率后的吸收。材料交界处法向电场可以跳变,法向电位移仍连续。
孤立界面模解释了样品折射率改变后动量匹配为何移动,但不能精确定位有限膜的反射极小值。显示的谷角来自计算角扫描。法向衰减长度针对强度;电场振幅衰减长度是它的两倍。出射波可以传播时,不给它指定倏逝衰减长度。
容易误解只要看到反射谷,就能唯一确定金属上结合了哪些分子。
正确理解谷形同时取决于角度、膜性质、偏振和周围介质。分子传感还需要表面结合模型与标定。这里仅改变均匀介质折射率,不据此推算分子数或化学选择性。
拖动青色光源穿过反射最暗角,再与离共振预设比较。
你会看到: 接近共振时,反射收集器变暗,样品侧的电场向量变长。增加待测介质折射率,再点击金色扫描曲线的新谷底,选中移动后的角度。
你会看到: 样品折射率增大,能够耦合的 p 偏振谷向更大的内部角移动;扫描范围以外的谷不作报告。换成 s 偏振,改变实际膜厚,再查看深度曲线并下载复数场。
你会看到: s 偏振没有法向电场分量。零损耗消除吸收,零膜厚完全移除金属膜。