热发射
采用代表性 Richardson 常数计算相对发射量。
E02 · 电子显微 / 基础
比较钨丝、六硼化镧、Schottky 与冷场发射。调节温度、功函数、提取场、虚拟源尺寸与真空,同步观察能量展宽、源电流接收量和稳定性。为窄能量展宽与足够真空选择合适的电子源。
物理教程
背景比较钨丝、六硼化镧、Schottky 与冷场发射。调节温度、功函数、提取场、虚拟源尺寸与真空,同步观察能量展宽、源电流接收量和稳定性。为窄能量展宽与足够真空选择合适的电子源。
为什么值得理解在解读图像之前,先探索电子源、光学柱与样品如何约束仪器。
先抓重点
采用代表性 Richardson 常数计算相对发射量。
所得电压的数值与电子的 eV 能量数值相同;热发射指数使用降低后的功函数。
初等关系忽略镜像势垒修正与空间电荷。
源平面电流估计没有包含光学柱光阑或缩小倍率;相干尺度使用固定传播距离。
容易误解最亮的源总能得到最小且最稳定的探针。
正确理解光学柱、源相空间、能宽和真空稳定性还会施加约束。
先预测哪个场景能量分布最窄,再比较四种电子源。
应该观察到: 冷场发射的代表性能宽较窄,虚拟源较小。选择冷场发射,将压力指数升至负四,观察稳定性视图。
应该观察到: 高亮度源也可能超出运行范围。达到能宽不超过 0.8 eV、相干尺度至少 1000 nm、真空合格且发射量至少为预设十分之一,然后核对目标。
应该观察到: 电子源选择需要同时考虑能量、相干性和真空。